【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之破邊,、炸裂】： 一般的鍍膜會(huì)對(duì)基片加熱,，由于基片是裝架在金屬圈,、碟內(nèi),，由于鏡圈或碟片與鏡片（基片）的熱膨脹系數(shù)不一致,，冷卻過(guò)程中會(huì)造成鏡片的破便或炸裂,。 有些大鏡片,，由于出罩時(shí)的溫度較高,，與室溫的溫差較大,，鏡片的熱應(yīng)力作用造成鏡片炸裂或破邊。有些零件邊緣倒邊的形狀容易造成卡圈而破邊,。 改善對(duì)策： 1. 夾具（鏡圈,、碟片）的設(shè)計(jì)，在尺寸配合上要合理,，充分考慮制造誤差帶來(lái)的影響,。 2. 注意鏡圈、碟片的變形,，已經(jīng)變形的夾具不能使用,。 3. 選用合適的夾具才來(lái)哦（非導(dǎo)磁材料、不生銹,、耐高溫不變性）,，不銹鋼較為理想（熱變形系數(shù)小）,，就是加工難度大,，價(jià)格貴。 4. 對(duì)于大鏡片應(yīng)降低出罩時(shí)的溫度,，減少溫差,，防止炸裂。 5. 如果時(shí)鏡圈,，可以考慮在鏡圈上開(kāi)槽,，作為緩沖。真空鍍膜設(shè)備升級(jí)改造,。山西真空鍍膜設(shè)備代理

【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之劃痕（膜傷）】： 劃痕是指膜面內(nèi)外有道子,，膜內(nèi)的稱(chēng)劃痕，膜外的稱(chēng)膜傷,。這也是鍍膜品質(zhì)改善中的一個(gè)頑癥,，雖然很清楚產(chǎn)生的原因和改善方法，但難以。 產(chǎn)生原因： 膜內(nèi)劃痕： 1. 前工程外觀(guān)不良?xì)埩簟?2. 各操作過(guò)程中的作業(yè)過(guò)水造成鏡片劃痕 3. 鏡片擺放太密,，搬運(yùn)過(guò)程中造成互相磕碰 4. 鏡片的擺放器具,、包裝材料造成鏡片表面擦傷 5. 超聲波清洗造成的傷痕 膜外傷痕(膜傷)： 1. 鏡片的擺放器具、包裝材料造成的膜傷,。 2. 鍍后超聲波清洗造成的膜傷,。 3. 各作業(yè)過(guò)程作業(yè)過(guò)失造成的膜傷。 改善對(duì)策： 1. 強(qiáng)化作業(yè)員作業(yè)規(guī)范 2. 訂立作業(yè)過(guò)失清單,，監(jiān)督作業(yè)員避免作業(yè)過(guò)失 3. 改善鏡片擺放間隔 4. 改善鏡片搬運(yùn)方法 5. 改善擺放器具,、包裝材料 6. 改善超聲波清洗工藝參數(shù) 7. 加強(qiáng)前工程檢驗(yàn)和鍍前檢查廣東真空鍍膜設(shè)備公司真空鍍膜設(shè)備常見(jiàn)故障及解決方法。

【真空鍍膜改善薄膜應(yīng)力】： 1. 鍍后烘烤,，Zui后一層膜鍍完后,，烘烤不要馬上停止，延續(xù)10分鐘“回火”,。讓膜層結(jié)構(gòu)趨于穩(wěn)定,。 2. 降溫時(shí)間適當(dāng)延長(zhǎng)，退火時(shí)效,。減少由于真空室內(nèi)外溫差過(guò)大帶來(lái)的熱應(yīng)力,。 3. 對(duì)高反膜、濾光膜等在蒸鍍過(guò)程中,，基片溫度不宜過(guò)高,，高溫易產(chǎn)生熱應(yīng)力。并且對(duì)氧化鈦,、氧化鉭等膜料的光學(xué)穩(wěn)定性有負(fù)面影響,。 4. 鍍膜過(guò)程離子輔助，減少應(yīng)力,。 5. 選擇合適的膜系匹配,，第yi層膜料與基片匹配。 6. 適當(dāng)減小蒸發(fā)速率,。 7. 對(duì)氧化物膜料全部充氧反應(yīng)鍍,，根據(jù)不同膜料控制氧進(jìn)氣量。

【真空鍍膜改善基片與膜的結(jié)合】： 1. 加強(qiáng)去油去污處理,，如是超聲波清洗,，重點(diǎn)考慮去油，若是手擦,，考慮先用碳酸鈣粉擦再清擦,； 2. 加強(qiáng)鍍前烘烤； 3. 有條件時(shí),，機(jī)組安裝冷凝及（POLYCOLD）,； 4. 提高真空度,； 5. 有條件時(shí)，機(jī)組安裝離子源,； 6. 膜料的去潮； 7. 保持工作環(huán)境的干燥,； 8. 對(duì)于多層膜,，在膜系設(shè)計(jì)時(shí)，就要考慮第yi層膜與基片的匹配,； 9. 采取研磨液復(fù)新去除鏡片表面的腐蝕層,； 10. 有時(shí)候適當(dāng)降低蒸發(fā)速率對(duì)膜強(qiáng)度的提高有幫助，對(duì)提高膜表面光滑度有積極意義,。真空鍍膜設(shè)備哪個(gè)牌子的好,？

【真空鍍膜簡(jiǎn)介】： 真空（vacuum）是一種沒(méi)有任何物質(zhì)的空間狀態(tài)，因?yàn)檎婵罩袥](méi)有介質(zhì),，所以像聲音這種需要介質(zhì)傳遞的能量在真空中是無(wú)法傳播的,。1654年當(dāng)時(shí)的馬德堡市zhang奧&托&格里克在今tian德國(guó)雷根斯堡進(jìn)行了一項(xiàng)實(shí)驗(yàn)，從而證明了真空是存在的?，F(xiàn)在我們所說(shuō)的真空并不是指空間內(nèi)沒(méi)有任何物質(zhì),，而是指在一個(gè)既定的空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓的氣體狀態(tài)，我們把這種稀薄的狀態(tài)稱(chēng)為真空?，F(xiàn)在的真空鍍膜技術(shù)是在真空中把金屬,、合金進(jìn)行蒸發(fā)、濺射使其沉積在目標(biāo)物體上,。 在當(dāng)今電子行業(yè),，很多的電子元器件都要使用真空鍍膜工藝，雖然我國(guó)的真空鍍膜技術(shù)起步較晚,，但發(fā)展的十分迅速,。真空鍍膜已經(jīng)成為電子元器件制造的一項(xiàng)不可或缺的技術(shù)。目前的真空鍍膜技術(shù)主要分為：真空蒸鍍,、磁控濺射鍍膜,、離子鍍。關(guān)于真空鍍膜機(jī),，你知道多少,？山西真空鍍膜設(shè)備代理

真空鍍膜設(shè)備使用時(shí)，需要注意哪些問(wèn)題?山西真空鍍膜設(shè)備代理

在真空鍍膜設(shè)備中需要鍍膜的被成為基片,，鍍的材料被成為靶材,。基片與靶材同在真空腔中,。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái),，并且沉降在基片表面,，通過(guò)成膜過(guò)程形成薄膜。真空鍍膜機(jī)對(duì)于濺射類(lèi)鍍膜,，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面,，經(jīng)歷成膜過(guò)程,，終形成薄膜。爐體可選擇由不銹鋼,、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu),。山西真空鍍膜設(shè)備代理

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